硅晶圆是什么?原来集成电路芯片这样炼成(图文),硅晶圆

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 在半导体的新闻中,总是会提到以尺寸标示的晶圆厂,如 8 寸或是 12 寸晶圆厂,然而,所谓的晶圆到底是什么东西?其中 8 寸指的是什么部分?要产出大尺寸的晶圆制造又有什么难度呢?以下将逐步介绍半导体最重要的基础——“晶圆”到底是什么。

 

 何谓晶圆?

 晶圆(wafer),是制造各式电脑晶片的基础。我们可以将晶片制造比拟成用乐高积木盖房子,藉由一层又一层的堆叠,完成自己期望的造型(也就是各式晶片)。然而,如果没有良好的地基,盖出来的房子就会歪来歪去,不合自己所意,为了做出完美的房子,便需要一个平稳的基板。对晶片制造来说,这个基板就是接下来将描述的晶圆。

 

 (Souse:Flickr/Jonathan Stewart CC BY 2.0)

 首先,先回想一下小时候在玩乐高积木时,积木的表面都会有一个一个小小圆型的凸出物,藉由这个构造,我们可将两块积木稳固的叠在一起,且不需使用胶水。晶片制造,也是以类似这样的方式,将后续添加的原子和基板固定在一起。因此,我们需要寻找表面整齐的基板,以满足后续制造所需的条件。

 在固体材料中,有一种特殊的晶体结构──单晶(Monocrystalline)。它具有原子一个接着一个紧密排列在一起的特性,可以形成一个平整的原子表层。因此,采用单晶做成晶圆,便可以满足以上的需求。然而,该如何产生这样的材料呢,主要有二个步骤,分别为纯化以及拉晶,之后便能完成这样的材料。

 如何制造单晶的晶圆

 纯化分成两个阶段,第一步是冶金级纯化,此一过程主要是加入碳,以氧化还原的方式,将氧化矽转换成 98% 以上纯度的矽。大部份的金属提炼,像是铁或铜等金属,皆是采用这样的方式获得足够纯度的金属。但是,98% 对于晶片制造来说依旧不够,仍需要进一步提升。因此,将再进一步采用西门子制程(Siemens process)作纯化,如此,将获得半导体制程所需的高纯度多晶矽。

 

 ▲ 矽柱制造流程(Source: Wikipedia)

 接着,就是拉晶的步骤。首先,将前面所获得的高纯度多晶矽融化,形成液态的矽。之后,以单晶的矽种(seed)和液体表面接触,一边旋转一边缓慢的向上拉起。至于为何需要单晶的矽种,是因为矽原子排列就和人排队一样,会需要排头让后来的人该如何正确的排列,矽种便是重要的排头,让后来的原子知道该如何排队。最后,待离开液面的矽原子凝固后,排列整齐的单晶矽柱便完成了。

 

 ▲ 单晶矽柱(Souse:Wikipedia)

 然而,8寸、12寸又代表什么东西呢?他指的是我们产生的晶柱,长得像铅笔笔杆的部分,表面经过处理并切成薄圆片后的直径。至于制造大尺寸晶圆又有什么难度呢?如前面所说,晶柱的制作过程就像是在做棉花糖一样,一边旋转一边成型。有制作过棉花糖的话,应该都知道要做出大而且扎实的棉花糖是相当困难的,而拉晶的过程也是一样,旋转拉起的速度以及温度的控制都会影响到晶柱的品质。也因此,尺寸愈大时,拉晶对速度与温度的要求就更高,因此要做出高品质 12 寸晶圆的难度就比 8 寸晶圆还来得高。

 只是,一整条的矽柱并无法做成晶片制造的基板,为了产生一片一片的矽晶圆,接着需要以钻石刀将矽晶柱横向切成圆片,圆片再经由抛光便可形成晶片制造所需的矽晶圆。经过这么多步骤,晶片基板的制造便大功告成,下一步便是堆叠房子的步骤,也就是晶片制造。


 4.科普:芯片制造,层层打造的高科技工艺;

 在介绍过矽晶圆是什么东西后,同时,也知道制造 IC 晶片就像是用乐高积木盖房子一样,藉由一层又一层的堆叠,创造自己所期望的造型。然而,盖房子有相当多的步骤,IC 制造也是一样,制造 IC 究竟有哪些步骤?本文将将就 IC 晶片制造的流程做介绍。

 

 层层堆叠的晶片架构

 在开始前,我们要先认识 IC 晶片是什么。IC,全名积体电路(Integrated Circuit),由它的命名可知它是将设计好的电路,以堆叠的方式组合起来。藉由这个方法,我们可以减少连接电路时所需耗费的面积。下图为 IC 电路的 3D 图,从图中可以看出它的结构就像房子的梁和柱,一层一层堆叠,这也就是为何会将 IC 制造比拟成盖房子。

 

 ▲ IC 晶片的 3D 剖面图。(Source:Wikipedia)

 从上图中 IC 晶片的 3D 剖面图来看,底部深蓝色的部分就是上一篇介绍的晶圆,从这张图可以更明确的知道,晶圆基板在晶片中扮演的角色是何等重要。至于红色以及土黄色的部分,则是于 IC 制作时要完成的地方。

 首先,在这里可以将红色的部分比拟成高楼中的一楼大厅。一楼大厅,是一栋房子的门户,出入都由这里,在掌握交通下通常会有较多的机能性。因此,和其他楼层相比,在兴建时会比较复杂,需要较多的步骤。在 IC 电路中,这个大厅就是逻辑闸层,它是整颗 IC 中最重要的部分,藉由将多种逻辑闸组合在一起,完成功能齐全的 IC 晶片。

 黄色的部分,则像是一般的楼层。和一楼相比,不会有太复杂的构造,而且每层楼在兴建时也不会有太多变化。这一层的目的,是将红色部分的逻辑闸相连在一起。之所以需要这么多层,是因为有太多线路要连结在一起,在单层无法容纳所有的线路下,就要多叠几层来达成这个目标了。在这之中,不同层的线路会上下相连以满足接线的需求。

 分层施工,逐层架构

 知道 IC 的构造后,接下来要介绍该如何制作。试想一下,如果要以油漆喷罐做精细作图时,我们需先割出图形的遮盖板,盖在纸上。接着再将油漆均匀地喷在纸上,待油漆干后,再将遮板拿开。不断的重复这个步骤后,便可完成整齐且复杂的图形。制造 IC 就是以类似的方式,藉由遮盖的方式一层一层的堆叠起来。

 

 制作 IC 时,可以简单分成以上 4 种步骤。虽然实际制造时,制造的步骤会有差异,使用的材料也有所不同,但是大体上皆采用类似的原理。这个流程和油漆作画有些许不同,IC 制造是先涂料再加做遮盖,油漆作画则是先遮盖再作画。以下将介绍各流程。

 金属溅镀:将欲使用的金属材料均匀洒在晶圆片上,形成一薄膜。

 制造光阻:先将光阻材料放在晶圆片上,透过光罩(光罩原理留待下次说明),将电子束打在不要的部分上,破坏光阻材料结构。接着,再以化学药剂将被破坏的材料洗去。

 蚀刻技术:将没有受光阻保护的金属,以蚀刻液洗去。蚀刻液通常是具有高腐蚀性的强酸。

 光阻去除:使用去光阻液皆剩下的光阻溶解掉,如此便完成一次流程。

 最后便会在一整片晶圆上完成很多 IC 晶片,接下来只要将完成的方形 IC 晶片剪下,便可送到封装厂做封装,至于封装厂是什么东西?就要待之后再做说明啰。

 

 ▲ 各种尺寸晶圆的比较。(Source:Wikipedia)

 最后,附上一段 Intel 的简易 IC 制造流程,看完这部影片应该会对 IC 制造的流程更有感觉喔。

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